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ASML計劃在荷蘭大規(guī)模擴張，助力EUV設備交付
- 據荷蘭媒體報道，ASML計劃在2028年前將其員工遷入位于荷蘭埃因霍溫附近的全新Brainport產業(yè)園區(qū)。這一消息是在ASML與埃因霍溫市政府官員共同介紹城市發(fā)展計劃初步草案時透露的。這一擴張計劃引發(fā)了全球晶圓制造行業(yè)的廣泛關注。據Tom's Hardware報道，臺積電、英特爾和三星電子等半導體巨頭或將從中受益。ASML的擴張如果能按計劃推進，將有助于滿足全球對極紫外光（EUV）光刻設備的迫切需求，從而加速先進制程的開發(fā)與應用。Brainport產業(yè)園區(qū)的擴張計劃大約在一年前首次公開。據荷蘭消
- 關鍵字： EUV 光刻機 ASML
前英特爾CEO加入光刻技術初創(chuàng)公司
- 近日，英特爾前CEO帕特·基辛格（Pat Gelsinger）宣布加入xLight，擔任董事會執(zhí)行董事長，xLight官網上個月也公布了這一消息。xLight是一家面向極紫外（EUV）光刻機開發(fā)基于直線電子加速器的自由電子激光（FEL）技術的EUV光源系統的初創(chuàng)公司。xLight雖然規(guī)模很小，但其團隊在光刻和加速器技術領域擁有多年的經驗，不僅擁有來自斯坦福直線加速器和其他地方的粒子加速器資深研究人士，其首席科學家Gennady Stupakov博士還是2024年IEEE核能和等離子體科學學會粒子加速器科學
- 關鍵字： 英特爾 EUV ASML xLight LPP FEL 光刻
EUV的未來看起來更加光明
- 對支持一切 AI 的先進節(jié)點芯片的需求迅速增長，這給該行業(yè)滿足需求的能力帶來了壓力。從為大型語言模型提供支持的超大規(guī)模數據中心，到智能手機、物聯網設備和自主系統中的邊緣 AI，對尖端半導體的需求正在加速。但制造這些芯片在很大程度上依賴于極紫外 （EUV） 光刻技術，這已成為擴大生產規(guī)模的最大障礙之一。自 2019 年第一批商用 EUV 芯片下線以來，設備、掩模生成和光刻膠技術的穩(wěn)步改進使該技術穩(wěn)定下來。但是，雖然良率正在提高，但它們仍然落后于更成熟的光刻技術。工藝穩(wěn)定性需要時刻保持警惕和微調。就 EUV
- 關鍵字： EUV AI芯片
英特爾兩臺High NA EUV光刻機已投產，單季完成3萬片晶圓
- 據路透社2月24日報道，英特爾資深首席工程師Steve Carson在美國在加利福尼亞州圣何塞舉行的一場會議上表示，英特爾已經安裝的兩臺ASML High NA EUV光刻機正在其晶圓廠生產，早期數據表明它們的可靠性大約是上一代光刻機的兩倍。Steve Carson指出，新的High NA EUV光刻機能以更少曝光次數完成與早期設備相同的工作，從而節(jié)省時間和成本。英特爾工廠的早期結果顯示，High NA EUV 機器只需要一次曝光和“個位數”的處理步驟，即可完成早期機器需要三次曝光和約40個處
- 關鍵字： 英特爾 High NA EUV 光刻機 晶圓
EUV光刻，新的對手
- 最近，美國勞倫斯利弗莫爾國家實驗室（LLNL）宣布開發(fā)出了一種名稱為大孔徑銩（BAT）激光器，這種激光器比現在行業(yè)內的標準 CO2 激光器將 EUV 光源提高約 10 倍。這一進步，可能為新一代「超越 EUV」的光刻系統鋪平道路，從而生產出更小、更強大、制造速度更快、同時耗電量更少的芯片。簡而言之，美國開發(fā)的新一代 BAT 激光器，遠超現在的 EUV 光刻，能夠將效率提升 10 倍。EUV 光刻有多強？目前來看，沒有 EUV 光刻，業(yè)界就無法制造 7nm 制程以下的芯片。EUV 光刻機也是歷史上最復雜、最
- 關鍵字： EUV
納米壓印光刻技術旨在挑戰(zhàn)EUV
- 9 月，佳能推出了這項技術的第一個商業(yè)版本，有朝一日可能會顛覆最先進的硅芯片的制造。它被稱為納米壓印光刻 （NIL），能夠對小至 14 納米的電路特征進行圖案化，使邏輯芯片能夠與目前正在量產的 Intel、AMD 和 Nvidia 處理器相媲美。NIL 系統提供的優(yōu)勢可能會挑戰(zhàn)價值 1.5 億美元的機器，這些機器在當今先進的芯片制造中占據主導地位，即極紫外 （EUV） 光刻掃描儀。如果佳能是正確的，其機器最終將以極低的成本提供 EUV 質量的芯片。該公司的方法與 EUV 系統完全不同，后者完全由總部位于荷
- 關鍵字： 納米壓印光刻技術 EUV? 佳能 新芯片制造系統
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